在氧化层中大部分的电荷效应是直接或间接地同热氧化的工艺过程有关的。在800—1250~c的温度范围内，用干氧、湿氧或水汽进行的热氧化过程有三个持续的阶段，首先是环境气氛中的氧进入到已生成的氧化层中，然后氧通过二氧化硅向内部扩散，当它到达si02-si界面时就同硅发生反应，形成新的二氧化硅。这样不断发生着氧的进入—扩散—反应过程，使靠近界面的硅不断转化为二氧化硅，钝化工艺，氧化层就以一定的速率向硅片内部生长。
另一方面，界面层中的氢离子也要向阴极迁移，溶液中的负离子（包括oh-）向阳极迁移。结果，阳极附近有oh-离子和其他负离子富集。随着电解反应的延续，处于紧邻阳极界面的溶液层中，电解质浓度有可能发展到饱和或过饱和状态。于是，表面钝化，溶度积较小的金属氢氧化物或某种盐类就要沉积在金属表面并形成一层不溶性膜
如浓hno3、浓h2so4、hclo3、k2cr2o7、kmno4等氧化剂都可使金属钝化。金属钝化后，其电极电势向正方向移动，台湾钝化，使其失去了原有的特性，如钝化了的铁在铜盐中不能将铜置换出。此外，用电化学方法也可使金属钝化，钝化处理，如将fe置于h2so4溶液中作为阳极，用外加电流使阳极极化，采用一定仪器使铁电位升高一定程度，fe就钝化了。
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