原理是采用涡电流，阳极氧化，并要求金属非磁性且表面不导电，当侧头与试样接触时，测头产生高频电流磁场，在基体金属中会感应出涡电流，此涡电流0产生的附加电磁场会改变测头参数，而测头参数的改变取决于与氧化膜相关的测头到基体的距离，然后经芯片分析得到数值。（gb/t4957-1994和iso2360-1982）阳极氧化厂，阳极氧化工艺，彩色阳极氧化，阳极氧化检测，阳极氧化技术，金属阳极氧化，铝合金阳极氧化
在进一步分析阳极复膜成像原理前有------说明：一定要避免混淆不同光学技术的成像原理。这是因为，有些研究人员将电解阳极化处理后在偏光加“波片”条件下观察时的彩色0图像效果混同于微差干涉衬度（dic）技术的彩色0图像效果，或者简单混同于薄膜干涉成像技术的效果。通过下面的表格可以简单地了解阳极复膜成像、成色与其它不同成像技术的差异。阳极氧化厂，阳极氧化工艺，阳极氧化厂，阳极氧化检测，金属阳极氧化，铝合金阳极氧化
铝制品表面的自然氧化铝既软又薄，耐蚀性差，不能成为有效防护层更不适合着色。人工制氧化膜主要是应用化学氧化和阳极氧化。化学氧化就是铝制品在弱碱性或弱酸性溶液中，部分基体金属发生反应，使其表面的自然氧化膜增厚或产生其他一些钝化膜的处理过程。
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